半導體晶圓五槽超聲波清洗機
半導體晶圓五槽超聲波清洗機是一種用于清洗半導體晶圓的設備。它通常由五個清洗槽組成，每個槽都具有超聲波發(fā)生器和相應的清洗液。這種清洗機的主要目的是去除晶圓表面的污染物，以確保晶圓在后續(xù)工藝步驟中的質量和性能。 清洗槽中的超聲波發(fā)生器會產(chǎn)生高頻聲波，通過液體傳播并產(chǎn)生強大的聲波振動。這些聲波振動可以產(chǎn)生微小的氣泡，并在其破裂時釋放出能量，從而形成渦流和沖擊波，有效地清洗晶圓表面。超聲波清洗具有高效、非接觸和均勻清洗的特點，可以去除晶圓上的顆粒、油脂、化學殘留物等各種污染物。 產(chǎn)品特點 1、多槽設計：該清洗機通常由五個清洗槽組成，每個槽都有特定的功能和清洗液。多槽設計可以滿足不同的清洗需求，例如預清…
